株式会社プリス

噴霧乾燥プロセス新技術

粒度分布自動追従型 アトマイザーシステム

粒度分布をリアルタイムで測定することにより、様々なプロセスを理解することができます。いつもと同じ原料、処方、そして運転条件。同じ品質だと思っていても、プロセス中は常に変化が起きています。つまり、ロータリーアトマイザーの回転数を一定にした製造条件が、同じ粒度の顆粒を与えるわけではありません。粒度をできるだけ正確にコントロールする。これからは回転数制御ではなく、粒度分布そのものを制御する時代です。

プロセスを理解する

マルバーンのリアルタイム粒度分布測定システムInsitec(インシテック)。スプレードライヤープロセスを効率的に、高いモニタリング性能で監視します。リアルタイムで監視することにより、様々なプロセス中の変化を読み取ることが可能です。

認識して自動で制御する (特許出願中)

粉体は様々なサイズの造粒子が集合したものです。そのため、粒子の大きさは粒度分布という「分布」で表されます。スプレードライヤーは比較的シャープな粒度分布を得ることが可能なプロセスですが、運転中は供給される原液性状やプロセスガスの状態、また乾燥チャンバーの温度が一定ではありません。より具体的に製造プロセスを認識し、製品品質を安定させるためには、従来型の「回転数の制御」ではなく、リアルタイムで粒度分布を測定し「粒子径の制御」を行うことが重要です。

 

 

コアンダディスク (特許出願中)

遠心噴霧方式では、高速回転するディスクに原液をフィードし、遠心力により水平方向に液滴を噴霧します。従来型のディスクを使用する際の課題として、乾燥室の内壁に未乾燥原料が付着するのを防ぐために、乾燥室を大きく設計する必要がありました。この課題を解決するために、コアンダ効果(粘性流体が近くの壁面に引き寄せられる効果)を応用した新型ディスクを開発しました。ディスクの下皿部を下部方向に伸長した設計により、通常は水平方向に噴霧される液滴が下方向に向かいます。そのため、噴霧された液滴の滞空距離が伸び、従来型ディスクと比較してより乾燥効率を高めることが可能となりました。乾燥室のサイズをコンパクトにすることによる設備導入コストの低減、あるいは既存のスプレードライヤーにおける歩留まりの改善が可能です。

 

 

旋回流分級モジュール (特許出願中)

セラミックスなどの無機材料で一般的に使用される二点捕集方式でじゃ、粒子径が大きく流動性に優れた造粒粉(顆粒体)は乾燥室下で回収され、残りの微粉がサイクロンで捕集されます。サイクロンで捕集された顆粒体は、旋回流によって崩れることもあり、製品にはせずに原料に戻されることが少なからずあります。したがって、乾燥室下の捕集率を増加させることが、製品歩留まりの改善につながります。旋回流分級モジュールをサイクロンダクトのに搭載することにより、乾燥室下の捕集効率を向上させることが可能です。

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